Oxford Instruments – PlasmaPro 100 Cobra ICP

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Tecnologia ICP Cobra® per Semiconduttori III-V e Optoelettronica

Il PlasmaPro 100 Cobra ICP definisce il nuovo standard nell’etching plasma accoppiato induttivamente per applicazioni critiche. Questo sistema avanzato di Oxford Instruments utilizza plasma ad alta densità per ottenere velocità di incisione superiori, uniformità eccezionale e processi a basso danno su wafer fino a 200mm.

Sorgente Plasma Cobra® Brevettata

La sorgente Cobra® ICP genera specie reattive ad alta densità a bassa pressione, mentre il controllo indipendente del bias DC substrato tramite generatore RF dedicato permette ottimizzazione precisa dell’energia ionica. Questa architettura garantisce profili verticali perfetti e superfici incise ultra-pulite per dispositivi critici.

Specificità tecniche distintive:

• Sorgenti ICP da 65mm, 180mm, 300mm per uniformità ottimale
• Range temperatura da -150°C a +400°C con controllo preciso
• Showerhead gas inlet per distribuzione uniforme
• Generatori RF solid-state con matching network close-coupled

Versatilità Multi-Materiale per Applicazioni Avanzate

Il PlasmaPro 100 Cobra ICP eccelle nell’incisione anisotropa di materiali critici per l’industria:

Semiconduttori compound:

• GaAs e InP per dispositivi RF e microwave
• VCSEL e microLED per comunicazioni ottiche
• Quantum wells per laser ad alta efficienza

Materiali avanzati:

• Metalli e leghe MRAM per memory storage
• Dielettrici (SiO2, Si3N4) per isolamento
• Materiali 2D per quantum computing

Partner Specializzato in Italia: Gambetti Kenologia

Gambetti Kenologia Srl, distributore ufficiale con sede a Binasco (Milano), fornisce expertise specializzata per il PlasmaPro 100 Cobra ICP su tutto il territorio italiano. Con 50 anni di leadership nelle tecnologie plasma e semiconduttori compound, Gambetti garantisce:

• Consulenza processi per etching III-V ottimizzato
• Installazione certificata con commissioning completo
• Training avanzato su tecniche ICP/RIE
• Assistenza reattiva 24/7 con tecnici specializzati
• Sviluppo processi personalizzati per applicazioni specifiche

Controllo Processo e Clustering Modulare

L’elettrodo temperatura controllata con raffreddamento He sul retro garantisce controllo termico ottimale per processi sensibili. Il sistema supporta clustering con fino a 5 moduli inclusi ALD, PECVD, Ion Beam per processi multi-step senza esposizione atmosferica.

Vantaggi operativi:

• High-volume manufacturing (HVM) compatibility
• Load-lock automatico per throughput elevato
• Finestre processo ampie per sviluppo applicativo
• Reproducibilità eccellente per produzione critica

Software PTIQ: Controllo Intelligente Avanzato

Il software PTIQ integrato offre controllo completo con:

• Monitoraggio real-time di tutti i parametri plasma
• End-point detection ottico per controllo processo
• Data logging avanzato per analisi post-processo
• Recipe management per riproducibilità garantita
• Remote diagnostics per supporto proattivo

Applicazioni Target e Mercati

Ideale per:

• Ricerca universitaria in optoelettronica
• Produttori semiconduttori compound
• Foundries specializzate III-V
• Centri R&D photonics e quantum
• Aziende VCSEL e microLED