Sistema Avanzato per Deposizione Plasma Enhanced CVD
Tecnologia PECVD All’Avanguardia per Film di Alta Qualità
Il PlasmaPro 100 PECVD rappresenta l’eccellenza di Oxford Instruments nella deposizione vapori chimici potenziata dal plasma. Questo sistema avanzato è specificamente progettato per produrre film di alta qualità con uniformità eccellente e controllo preciso delle proprietà fondamentali come indice di rifrazione, stress e caratteristiche elettriche.
Plasma Enhanced CVD: Tecnologia Superiore
Il plasma enhanced CVD utilizza energia del plasma per attivare le reazioni chimiche a temperature inferiori rispetto al CVD termico tradizionale. Il sistema genera plasma ad alta densità a bassa pressione, permettendo deposizione controllata di film dielettrici e materiali avanzati con proprietà ottimizzate per applicazioni critiche.
Vantaggi tecnici distintivi:
Design showerhead RF con distribuzione gas ottimizzata
Doppia frequenza 13.56MHz e 100KHz per controllo stress
Deposizione conformale eccellente con bassa generazione particelle
Percorso alta conduttanza per processing uniforme
Controllo Temperatura Esteso per Processi Avanzati
Gli elettrodi riscaldati resistivamente del PlasmaPro 100 PECVD operano nell’ampio range da 400°C fino a 1200°C, garantendo flessibilità estrema per diversi materiali e applicazioni. Il controllo temperatura preciso con raffreddamento He backside assicura proprietà film ottimali.
Versatilità Multi-Materiale per Applicazioni Industriali
Il sistema PECVD eccelle nella deposizione di materiali critici:
Film dielettrici avanzati:
Ossido di silicio (SiO2) per isolamento e passivazione
Nitruro di silicio (Si3N4) per barriere diffusione
Ossinitruro di silicio (SiON) per ottica integrata
Materiali funzionali:
Carburo di silicio (SiC) per alta temperatura e potenza
Silicio amorfo per celle solari e TFT
Hard mask per lithografia avanzata
Anti-reflective coatings per photonics
Applicazioni Target e Mercati Strategici
Il PlasmaPro 100 PECVD serve settori ad alta tecnologia:
Photonics e optoelettronica:
Waveguide in SiO2/Si3N4 per comunicazioni ottiche
Rivestimenti anti-riflesso per laser e LED
Film passivazione per dispositivi ottici
MEMS e microsistemi:
Layers sacrificiali per micromachining
Film strutturali per sensori e attuatori
Isolamento elettrico per packaging MEMS
Clustering Modulare e Integrazione Sistemica
Clustering avanzato con fino a 4 moduli processo per linee produttive integrate:
ALD/PECVD per stack dielettrico ottimizzato
Etching/PECVD per processes alternate
Multiple PECVD per throughput elevato
Load-lock per processing batch continuo
Partner Specializzato: Gambetti Kenologia Milano
Gambetti Kenologia Srl, distributore ufficiale con sede a Binasco (Milano), fornisce expertise completo per il PlasmaPro 100 PECVD. Con 50 anni di leadership nelle tecnologie film sottili, garantisce:
Consulenza processi per deposizione film ottimizzata
Sviluppo ricette personalizzate per applicazioni specifiche
Ottimizzazione stress film per riduzione warpage wafer
Training PECVD avanzato per operatori specializzati
Assistenza clustering per integrazioni sistemiche
Supporto photonics e MEMS applications
Manutenzione specializzata elettrodi alta temperatura
Controllo Processo e Automazione Avanzata
Controllo in-situ completo con:
Riflettometro integrato per monitoraggio spessore real-time
Optical end-point detection per controllo processo preciso
In-situ chamber cleaning con end-pointing automatico
Sistema X20 per intelligenza processo avanzata
Software PTIQ garantisce:
Recipe management per riproducibilità eccellente
Data logging avanzato per tracciabilità processo
Remote diagnostics per supporto proattivo
Process optimization automatica
Vantaggi Economici e Operativi
Basso costo ownership per manutenzione semplificata
Cambio rapido tra dimensioni wafer diverse
Throughput elevato per produzione efficiente
Uniformità eccellente fino a 200mm
Upgrade modulare con clustering flessibile
Energy efficiency con controlli ottimizzati
Caratteristiche Tecniche Avanzate
Specifiche sistema:
Wafer compatibility: fino 200mm con adattatori
Range temperatura: 400°C-1200°C elettrodi
Controllo pressione: automatico con finestre ampie
Gas delivery: showerhead ottimizzato per uniformità
PlasmaPro 100 ICPCVD