Tecnologia PECVD All’Avanguardia per Film di Alta Qualità
Il PlasmaPro 100 PECVD rappresenta l’eccellenza di Oxford Instruments nella deposizione vapori chimici potenziata dal plasma. Questo sistema avanzato è specificamente progettato per produrre film di alta qualità con uniformità eccellente e controllo preciso delle proprietà fondamentali come indice di rifrazione, stress e caratteristiche elettriche.
Plasma Enhanced CVD: Tecnologia Superiore
Il plasma enhanced CVD utilizza energia del plasma per attivare le reazioni chimiche a temperature inferiori rispetto al CVD termico tradizionale. Il sistema genera plasma ad alta densità a bassa pressione, permettendo deposizione controllata di film dielettrici e materiali avanzati con proprietà ottimizzate per applicazioni critiche.
Vantaggi tecnici distintivi:
- Design showerhead RF con distribuzione gas ottimizzata
- Doppia frequenza 13.56MHz e 100KHz per controllo stress
- Deposizione conformale eccellente con bassa generazione particelle
- Percorso alta conduttanza per processing uniforme
Controllo Temperatura Esteso per Processi Avanzati
Gli elettrodi riscaldati resistivamente del PlasmaPro 100 PECVD operano nell’ampio range da 400°C fino a 1200°C, garantendo flessibilità estrema per diversi materiali e applicazioni. Il controllo temperatura preciso con raffreddamento He backside assicura proprietà film ottimali.
Versatilità Multi-Materiale per Applicazioni Industriali
Il sistema PECVD eccelle nella deposizione di materiali critici:
Film dielettrici avanzati:
- Ossido di silicio (SiO2) per isolamento e passivazione
- Nitruro di silicio (Si3N4) per barriere diffusione
- Ossinitruro di silicio (SiON) per ottica integrata
Materiali funzionali:
- Carburo di silicio (SiC) per alta temperatura e potenza
- Silicio amorfo per celle solari e TFT
- Hard mask per lithografia avanzata
- Anti-reflective coatings per photonics
Applicazioni Target e Mercati Strategici
Il PlasmaPro 100 PECVD serve settori ad alta tecnologia:
Photonics e optoelettronica:
- Waveguide in SiO2/Si3N4 per comunicazioni ottiche
- Rivestimenti anti-riflesso per laser e LED
- Film passivazione per dispositivi ottici
MEMS e microsistemi:
- Layers sacrificiali per micromachining
- Film strutturali per sensori e attuatori
- Isolamento elettrico per packaging MEMS
Clustering Modulare e Integrazione Sistemica
Clustering avanzato con fino a 4 moduli processo per linee produttive integrate:
- ALD/PECVD per stack dielettrico ottimizzato
- Etching/PECVD per processes alternate
- Multiple PECVD per throughput elevato
- Load-lock per processing batch continuo
Partner Specializzato: Gambetti Kenologia Milano
Gambetti Kenologia Srl, distributore ufficiale con sede a Binasco (Milano), fornisce expertise completo per il PlasmaPro 100 PECVD. Con 50 anni di leadership nelle tecnologie film sottili, garantisce:
- Consulenza processi per deposizione film ottimizzata
- Sviluppo ricette personalizzate per applicazioni specifiche
- Ottimizzazione stress film per riduzione warpage wafer
- Training PECVD avanzato per operatori specializzati
- Assistenza clustering per integrazioni sistemiche
- Supporto photonics e MEMS applications
- Manutenzione specializzata elettrodi alta temperatura
Controllo Processo e Automazione Avanzata
Controllo in-situ completo con:
- Riflettometro integrato per monitoraggio spessore real-time
- Optical end-point detection per controllo processo preciso
- In-situ chamber cleaning con end-pointing automatico
- Sistema X20 per intelligenza processo avanzata
Software PTIQ garantisce:
- Recipe management per riproducibilità eccellente
- Data logging avanzato per tracciabilità processo
- Remote diagnostics per supporto proattivo
- Process optimization automatica
Vantaggi Economici e Operativi
- Basso costo ownership per manutenzione semplificata
- Cambio rapido tra dimensioni wafer diverse
- Throughput elevato per produzione efficiente
- Uniformità eccellente fino a 200mm
- Upgrade modulare con clustering flessibile
- Energy efficiency con controlli ottimizzati
Caratteristiche Tecniche Avanzate
Specifiche sistema:
- Wafer compatibility: fino 200mm con adattatori
- Range temperatura: 400°C-1200°C elettrodi
- Controllo pressione: automatico con finestre ampie
- Gas delivery: showerhead ottimizzato per uniformità
- RF power: dual frequency per controllo proprietà
- Pumping: alta capacità per processing stabile
PlasmaPro 100 ICPCVD