Oxford Instruments – PlasmaPro 100 RIE

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Tecnologia RIE Consolidata per Applicazioni Multi-Materiale

Il PlasmaPro 100 RIE rappresenta la soluzione economica e affidabile di Oxford Instruments per reactive ion etching di alta qualità. Questo sistema utilizza una singola sorgente RF plasma che determina simultaneamente densità e energia ionica, offrendo controllo ottimale per etching anisotropo e isotropo su materiali diversi.

Processo Fisico Ottimizzato

Il reactive ion etching è un processo prevalentemente fisico dove plasma ricco viene creato sopra il wafer e gli ioni accelerati verso la superficie producono etching altamente anisotropo. Il gas entra dalla parte superiore della camera convertendosi in plasma reattivo a bassa pressione, garantendo velocità di incisione elevate e profili controllati.

Vantaggi tecnici distintivi:

• Percorso alta conduttanza uniforme attraverso camera
• Alto flusso gas mantenendo bassa pressione
• Ampia finestra processo per sviluppo applicativo
• Uniformità eccellente su piattaforma 200mm

Versatilità Multi-Materiale Estesa

Il sistema PlasmaPro 100 RIE eccelle nell’incisione ionica reattiva di materiali critici:

Semiconduttori e dielettrici:

• Silicio (Si) per microelettronica e MEMS
• Ossidi di silicio (SiO2) per isolamento
• Nitruri di silicio (Si3N4) per passivazione

Materiali avanzati:

• Metalli (Al, Au, Cr) per interconnessioni
• Superconduttori (NbN, NbTiN) per quantum computing
• Materiali 2D (grafene, h-BN, MoS2) per elettronica avanzata
• Polimeri (polyimide) per packaging flessibile

Controllo Temperatura Criogenico Avanzato

L’elettrodo temperatura controllata opera nell’ampio range -150°C a +400°C con opzioni:

• Raffreddamento azoto liquido per processi criogenici
• Chiller fluido ricircolante per controllo preciso
• Riscaldamento resistivo per alte temperature

Clustering e Modularità Industriale

Clustering avanzato con fino a 4 moduli processo per linee multi-step:

• ALD, ALE per deposizione/etching atomico
• CVD, PECVD per film sottili
• Ion Beam Etch/Deposition per processi direzionali

Load station opzionale per integrazione through-wall e operazione simultanea di multiple camere per throughput massimo.

Distributore Specializzato: Gambetti Kenologia Milano

Gambetti Kenologia Srl, distributore ufficiale con sede a Binasco (Milano), fornisce expertise completo per il PlasmaPro 100 RIE. Con 50 anni di leadership nelle tecnologie plasma, garantisce:

• Consulenza processi per etching multi-materiale ottimizzato
• Installazione certificata con setup personalizzato
• Training RIE avanzato per operatori specializzati
• Assistenza continuativa 24/7 con tecnici qualificati
• Sviluppo ricette customizzate per applicazioni specifiche
• Stock parti ricambio per supporto reattivo locale

Software PTIQ: Controllo Plasma Intelligente

Il software PTIQ integrato garantisce:

• Controllo completo parametri plasma in real-time
• Diagnostica remota per troubleshooting rapido
• Data logging avanzato per analisi processo
• Recipe management per riproducibilità garantita
• End-point detection per controllo precisione

Applicazioni Target e Settori

Ideale per:

• Laboratori universitari ricerca materiali
• Centri R&D quantum e superconduttori
• Produzione MEMS e sensori
• Microelettronica e packaging
• Photonics e optoelettronica
• Materiali 2D e nanotecnologie

Vantaggi Economici e Operativi

• Soluzione economica per etching generale
• Versatilità materiali in singolo sistema
• Manutenzione semplificata design consolidato
• Upgrade modulare con clustering
• ROI elevato per laboratori multi-applicazione