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Il primo sistema ibrido di nanolitografia mix&match
Mask Aligner per la ricerca e sviluppo e piccole produzioni
Maskless aligner per la produzione in serie
Sistema per la preparazione di superfici e la deposizione di rivestimenti superficiali avanzati e strati protettivi per dispositivi sensibili.
Tecnologia utilizzante Difluoruro di Xenon in fase vapore per la rimozione a secco di strati sacrificali di Silicio e di SiO2
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