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Forge Nano – Soluzioni ALD scalabili

Athena ALD

ALD per oggetti 3D e materiali porosi per R&D

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ForgeNano produce sistemi e processi di rivestimento estremamente uniformi a livello atomico ALD , con materiali avanzati, su polveri (Particles ALD), oggetti 3D e substrati piani quali (wafers, vetri, o altro) .
Attraverso una serie di sistemi ALD di propria progettazione e realizzazione, basati su propri brevetti innovativi, rendono ForgeNano il leader tecnologico nel settore dell’ingegneria delle superfici e dei nano rivestimenti, oltre a poter offrire un servizio conto terzi di rivestimenti ALD e PALD.
La gamma dei prodotti varia da sistemi per ricerca e sviluppo, facilmente scalabili a sistemi per produzione nel settore dei semiconduttori, displays e del trattamento di polveri con elevate quantità giornaliere.
Le polveri rivestite con la tecnica di Forgenano migliorano nettamente le loro caratteristiche e quelle dei prodotti o dei rivestimenti realizzati con le polveri stesse, in svariati settori industriali avanzati , quali , ad esempio : stampa 3D, produzione di batterie agli Ioni di Litio, catalisi , ecc.ecc.

I substrati piani o wafers trattabili nei sistemi ALD FN sono utilizzati ad esempio nella realizzazione di dispositivi MEMS, memorie DRAM, dispositivi RF, dispositivi di potenza, con possibilità di rivestimenti su strutture con rapporto di aspetto fino a 1000:1 e prestazioni nettamente superiori a rivestimenti realizzati con tecniche tradizionali quali CVD o PVD, ad esempio.

Cosa è il processo PALD


Cosa è il processo ALD

Alcuni partners/clienti mondiali, quali:

Volkswagen, LG Corporation, Mitsui Kinzoku, University of Maryland, Oakridge National Laboratory ,Argonne National Laboratory

Spettroscopia su scala nanometrica

 

Molecular Vista progetta, progetta e fornisce strumenti che consentono ai suoi clienti di sondare e comprendere la materia a livello molecolare attraverso la visualizzazione quantitativa. Molecular Vista è stata fondata da due veterani del settore, il Prof. Kumar Wickramasinghe (UC Irvine e precedentemente con IBM Research) e il Dr. Sung Park (co-fondatore di Park Scientific Instruments).

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Thermo Scientific – Sistemi XPS – XRay Photoelectron Spectroscopy (XPS)

ESCALAB QXi XPS

Lo spettrometro XPS ESCALAB 250 Xi+ soddisfa le richieste di coloro che necessitano di maggiori prestazioni analitiche unite alla flessibilità.

Spettrometro XPS compatto K-Alpha+

Lo spettrometro Thermo Scientific™ K-Alpha™ XPS è stato progettato per fornire risultati di alta qualità sulla base di un flusso di lavoro semplificato. Ha un funzionamento semplice e intuitivo, senza dover rinunciare alle capacità di analisi sia in termini di performance che di XPS.

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Brochure generale

Thermo Scientific è uno dei maggiori gruppi industriali al mondo per la fornitura di strumentazione analitica, con un fatturato che ha superato i  18 M di $ nell’ultimo anno e con  più di 50.000 occupati in 50 paesi del mondo.

Gambetti Kenologia rappresenta in Italia la divisione degli strumenti per analisi superficiale XPS (Photon electron X-Ray Spettroscopy) di Thermo Scientific

La spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS) è una tecnica utilizzata per analizzare la chimica delle superfici di un materiale. Con questa tecnica si può misurare la composizione elementare, la formula empirica, lo stato chimico e lo stato elettronico degli elementi di un materiale.

Gli Spettri XPS sono ottenuti irradiando una superficie solida con un fascio di raggi X e, contemporaneamente, misurando l’energia cinetica degli elettroni che vengono emessi dai primi strati superficiali (da 1 a 10 nm del materiale analizzato).

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Analisi di superfice SIMS & LEIS

M6 SIMS

M6 è l'ultima generazione di strumenti di fascia alta di IONTOF Il suo design garantisce prestazioni superiori in tutti i campi delle applicazioni SIMS

M6 Plus SIMS

M6 Plus SIMS che unisce la composizione chimica, alle proprietà fisiche e alla struttura tridimensionale dei materiali e dispositivi su scala nanometrica

M6 Hybrid SIMS

Con l’estensione Q ExactiveTM per M6, IONTOF fornisce il primo strumento SIMS commerciale che combina la più elevata risoluzione di massa

Spettrometro TOF SIMS 5

TOF.SIMS 5 IONTOF offre uno strumento TOF-SIMS collaudato sul campo ed efficiente standard di mercato nella ricerca e nell'industria

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La società ION TOF è un´azienda leader nella realizzazione di sistemi analitici di superficie di tipo TOF SIMS (Time of Flight – Secondary Ions Mass Spectroscopy) e LEIS (high sensitive Low Energy Ion Scattering).

La società , fondata dal Prof. Alfred Benninghoven nel 1989, ha iniziato la sua attività , commercializzando le soluzioni analitiche realizzate grazie alle pionieristiche ricerche del Prof. Benninghoven e del suo team di ricercatori dell´Università di Munster.

Sin dall´inizio il contributo tecnologico e scientifico delle ricerche condotte presso l´Università di Munster ha avuto un ruolo cruciale per il successo commerciale dei prodotti.

Nel frattempo la tecnica TOF SIMS si è affermata come una delle più efficaci e potenti tecniche di investigazione della composizione chimica delle superfici e degli strati vicini alla superficie.

Di più recente introduzione invece è la tecnica LEIS, che consente l´investigazione chimica non distruttiva della composizione chimica, e della relativa distribuzione spaziale, delle specie presenti nel solo primo strato atomico di superficie.

Dalle prime realizzazioni ad oggi, sono state introdotte molte innovazioni che hanno migliorato le caratteristiche di risoluzione spaziale e di affidabilità , ed attualmente sono in esercizio circa 160 strumenti in tutto il mondo.

Il costante coinvolgimento in progetti di ricerca universitari, in modo particolare nel settore delle Nanotecnologie, consente di avere un contatto diretto con i problemi e le richieste di potenzialità analitica che vengono avanzati.

Questo aspetto risulta di grande impulso per lo sviluppo scientifico e tecnologico del portafoglio prodotti.

ION TOF lavora in simbiosi con TASCON, la quale attraverso dimostrazioni e servizi di analisi conto terzi permette un facile e consistente approccio alle potenzialità analitiche delle tecniche TOF SIMS e LEIS.

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