Elementi di portfolio
Park Systems FX40
Il microscopio a forza atomica Park FX40 è il primo AFM al mondo di facile utilizzo con tecnologia robotica e self-learning
μMLA
Maskless aligner da tavolo
Nanofrazor Scholar
Nanofabbricazione avanzata per tutti
Nanofrazor Explore
Il primo sistema ibrido di nanolitografia mix&match
MLA150
Mask Aligner per la ricerca e sviluppo e piccole produzioni
DWL 66+
Eccellenza nella litografia con modalità in scala di grigi
MLA300
Maskless aligner per la produzione in serie
DWL 2000/4000
Scrittura diretta 2D e 2.5D per grandi aree
ULTRA
Laser Mask Writer per i semiconduttori