Sistemi Compatti Multi-Processo per Ricerca e Produzione
Tre Soluzioni Plasma in Design Compatto: La Versatilità PlasmaPro 80
La linea PlasmaPro 80 rappresenta l’eccellenza di Oxford Instruments nel design di sistemi plasma compatti multi-processo. Questa famiglia innovativa offre tre configurazioni specializzate – ICP, RIE e PECVD – tutte caratterizzate da footprint ridotto, open loading design e facilità d’uso senza compromessi sulla qualità dei processi.
Design Compatto Rivoluzionario per Ogni Laboratorio
I sistemi plasma compatti Oxford della serie 80 sono progettati specificamente per ricerca, prototyping e produzione a basso volume. Il design small footprint permette facile installazione in laboratori con spazio limitato, mentre l’open loading design garantisce carico/scarico wafer veloce e operazioni efficienti.
Vantaggi design unificato:
Footprint ridotto per installazione flessibile
Open loading per accesso diretto e veloce
Wafer 200mm compatibility con eccellente uniformità
Facilità d’uso per operatori diversi livelli
Manutenzione semplificata componenti accessibili
PlasmaPro 80 ICP – Etching Plasma Ad Alta Densità Compatto
Tecnologia ICP in Format Compatto
Il PlasmaPro 80 ICP combina le prestazioni dell’etching plasma accoppiato induttivamente in un sistema compatto ideale per applicazioni di ricerca avanzate. Utilizza plasma ad alta densità per velocità etching elevate mantenendo controllo processo eccellente.
Caratteristiche tecniche distintive:
Plasma ICP ad alta densità per velocità etching superiori
Controllo temperatura ottimizzato con raffreddamento elettrodo
Configurazione pumping radiale ad alta conduttanza
Data logging <500ms per tracciabilità processo completa
Applicazioni specializzate:
Etching semiconduttori III-V per optoelettronica
Microstruttrazione per MEMS e sensori
Prototipazione dispositivi avanzati
Ricerca materiali compound e 2D
Vantaggi Competitivi ICP
Controllo processo superiore:
Uniformità eccellente processo garantita design camera
Velocità etching elevate con plasma alta densità
Selettività ottimizzata per maschere diverse
Pumping veloce per cicli processo rapidi
PlasmaPro 80 RIE – Reactive Ion Etching Versatile
Soluzione RIE Compatta per Applicazioni Multiple
Il PlasmaPro 80 RIE offre reactive ion etching di alta qualità in formato compatto, ideale per ricerca quantum e dispositivi optoelettronici. Sistema utilizzato con successo da University College London per circuiti superconduttori e buffer ottici chip-based.
Prestazioni research-grade:
Controllo gas eccellente e potenza plasma precisa
Flessibilità processo elevata per materiali diversi
Etching pattern preciso fino gap 50nm
Cleaning chimico aggressivo con deposizione immediata
Applicazioni dimostrate:
Circuiti superconduttori etching film NbN
Waveguide ottiche con sidewall lisci
Dispositivi quantum per computing applications
Chip-based optical buffers per comunicazioni
Controlli Avanzati e Flessibilità
Controllo processo ottimizzato:
Gas delivery preciso per chimica controllata
Plasma power control per energy management
Temperature uniformity wafer per risultati consistenti
Il PlasmaPro 80 PECVD fornisce deposizione film sottili di alta qualità per applicazioni photonics, passivazione e isolamento. Sistema ottimizzato per nitruro e ossido di silicio con controllo proprietà film eccellente.
Capacità deposizione avanzate:
Film dielettrici SiO2 e Si3N4 per photonics
Passivazione superfici per protezione dispositivi
Controllo stress film per applicazioni critiche
Uniformità eccellente su wafer 200mm
Caratteristiche PECVD specifiche:
Controllo spessore preciso per film sottili
Proprietà film ottimizzate (indice rifrazione, stress)
Velocità deposizione competitive per throughput
Qualità surface elevata per applicazioni ottiche
Applicazioni Deposizione Specializzate
Settori applicativi:
Photonics integrata per comunicazioni ottiche
Passivazione MEMS per protezione strutture
Isolamento elettrico dispositivi semiconduttori
Coating ottico per riduzione riflessioni
Caratteristiche Comuni Linea PlasmaPro 80
Software PTIQ Integrato
Tutti i sistemi PlasmaPro 80 integrano il software PTIQ avanzato per:
Recipe management per riproducibilità processi
Real-time monitoring parametri critici
Data analytics per optimization continua
Remote diagnostics per supporto proattivo
Specifiche Tecniche Unificate
Parametri comuni serie 80:
Wafer compatibility: fino 200mm con uniformità eccellente
Open loading: accesso diretto camera per velocità
Temperature control: ottimizzato per ogni processo
Footprint: design compatto per spazio limitato
Standards: Built Semi S2/S8 per sicurezza
Controllo Qualità e Affidabilità
Garanzie prestazioni:
Uniformità temperatura wafer per risultati consistenti
Controllo processo eccellente per R&D e produzione
Serviceability migliorata con accesso components
Uptime elevato per produttività laboratorio
Partner Specializzato: Gambetti Kenologia Milano
Gambetti Kenologia Srl, distributore ufficiale con sede a Binasco (Milano), fornisce supporto completo per l’intera linea PlasmaPro 80. Con 50 anni di esperienza nelle tecnologie plasma, garantisce:
Servizi Integrati Multi-Sistema
Consulenza specializzata:
Selezione configurazione ottimale (ICP/RIE/PECVD)
Layout laboratorio per installazioni multiple
Process development per applicazioni specifiche
Training integrato su tutti e tre i sistemi
Support tecnico avanzato:
Installazione simultanea sistemi multipli
Cross-training operatori su diverse tecnologie
Manutenzione coordinata per downtime ridotto
Upgrade path per espansione capacità
Expertise Multi-Tecnologia
Competenze specializzate:
Etching ICP per compound semiconductors
RIE processes per quantum e photonics
PECVD optimization per film dielettrici
Multi-step processes combinando tecnologie
Vantaggi Economici Linea Unificata
ROI Ottimizzato per Laboratori
Benefici investimento:
Costi ridotti per training e maintenance unificati
PlasmaPro 100 Nano CVD