PlasmaPro 100 Nano CVD

Si tratta di uno strumento per CVD e PECVD per la crescita di nanomateriali ed eterostrutture 1D/2D con attivazione del catalizzatore in situ e un rigoroso controllo del processo, con temperature fino a 1.200°C.

- Crescita di materiali 2D
- Crescita di MoS2
- Crescita di grafene
- Crescita di hBN
- Crescita di materiali 1D
- Eccellente uniformità con temperature impostabili fino a 1200°C
- Possibilità di scegliere le temperature degli elettrodi: da 700°C, 800°C o 1200°C
- Dimensioni del substrato: fino a 200 mm
- Loadlock
- Design con doccia per l’erogazione uniforme del precursore
- Sistema di erogazione di sorgenti liquide/solide per la crescita di MoS2, MoSe2 e altri TMDC (opzionale)Crescita di nano tubi di car