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PlasmaPro 100 Cobra ICP: etching plasma ad alta densità per GaAs, InP, VCSEL.
PlasmaPro 100 RIE: reactive ion etching versatile per Si, SiO2, metalli, superconduttori
Linea PlasmaPro 80: sistemi compatti ICP, RIE, PECVD open-loading per ricerca e produzione.
Sistema plasma bassa pressione V6-G Pink da banco. Camera 170x200x170mm, potenza microonde 50-300W. Ideale per R&D e piccole produzioni.
Sistema plasma V10-G Pink da banco potenziato. Camera Ø215x260mm, potenza 50-600W. Maggiore capacità produttiva.
Sistema plasma V15-G Pink cabinet 19″. Camera 250x250x250mm, potenza 100-600W. Soluzione industriale compatta.
Sistema plasma V55-G Pink alta capacità. Camera 400x460x340mm, potenza 100-1200W, 2 ingressi gas.
Sistema plasma V80-G Pink massima capacità. Camera 400x460x430mm, potenza 100-1200W, 2 gas.
Sistemi plasma Inline Pink per trattamento continuo. Integrazione linee produttive, processo automatizzato. Soluzion custom
Sistemi plasma Reel-to-Reel Pink per nastri flessibili. Trattamento continuo film, foil, tessuti. Produzione high-speed
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