ptiq software
PTIQ è la più recente soluzione software intelligente per i sistemi Plasma Technology
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Ionfab®300 sistema di deposizione
PlasmaPro ASP: breakthrough Oxford Instruments per deposizione strato atomico 3x più veloce.
FlexAL® sistema ALD remoto e termico combinato per processi su nanoscala
PlasmaPro 100 Nano CVD: sistema specializzato crescita grafene, MoS2, hBN, nanotubi carbonio.
PlasmaPro 100 ICPCVD: plasma CVD remoto per film SiO2, Si3N4 a 5°C-400°C.
PlasmaPro 100 PECVD: deposizione film plasma SiO2, SiN per photonics, MEMS
PlasmaPro 100 ALE: sistema atomic layer etching Etchpoint® per GaN HEMT, materiali 2D.
PlasmaPro 100 Estrelas DRIE: tecnologia innovativa per incisione reattiva profonda con processi Bosch e Cryo
PlasmaPro 100 Cobra ICP: etching plasma ad alta densità per GaAs, InP, VCSEL.