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Forge Nano – Soluzioni ALD scalabili

Athena ALD

ALD per oggetti 3D e materiali porosi per R&D

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ForgeNano produce sistemi e processi di rivestimento estremamente uniformi a livello atomico ALD , con materiali avanzati, su polveri (Particles ALD), oggetti 3D e substrati piani quali (wafers, vetri, o altro) .
Attraverso una serie di sistemi ALD di propria progettazione e realizzazione, basati su propri brevetti innovativi, rendono ForgeNano il leader tecnologico nel settore dell’ingegneria delle superfici e dei nano rivestimenti, oltre a poter offrire un servizio conto terzi di rivestimenti ALD e PALD.
La gamma dei prodotti varia da sistemi per ricerca e sviluppo, facilmente scalabili a sistemi per produzione nel settore dei semiconduttori, displays e del trattamento di polveri con elevate quantità giornaliere.
Le polveri rivestite con la tecnica di Forgenano migliorano nettamente le loro caratteristiche e quelle dei prodotti o dei rivestimenti realizzati con le polveri stesse, in svariati settori industriali avanzati , quali , ad esempio : stampa 3D, produzione di batterie agli Ioni di Litio, catalisi , ecc.ecc.

I substrati piani o wafers trattabili nei sistemi ALD FN sono utilizzati ad esempio nella realizzazione di dispositivi MEMS, memorie DRAM, dispositivi RF, dispositivi di potenza, con possibilità di rivestimenti su strutture con rapporto di aspetto fino a 1000:1 e prestazioni nettamente superiori a rivestimenti realizzati con tecniche tradizionali quali CVD o PVD, ad esempio.

Cosa è il processo PALD


Cosa è il processo ALD

Alcuni partners/clienti mondiali, quali:

Volkswagen, LG Corporation, Mitsui Kinzoku, University of Maryland, Oakridge National Laboratory ,Argonne National Laboratory

Spettroscopia su scala nanometrica

 

Molecular Vista progetta, progetta e fornisce strumenti che consentono ai suoi clienti di sondare e comprendere la materia a livello molecolare attraverso la visualizzazione quantitativa. Molecular Vista è stata fondata da due veterani del settore, il Prof. Kumar Wickramasinghe (UC Irvine e precedentemente con IBM Research) e il Dr. Sung Park (co-fondatore di Park Scientific Instruments).

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ULVAC – Ellissometri spettroscopici

Ellissometro spettroscopico 3000A

Ellissometro spettroscopico in versione da banco con stage motorizzato in X,Y,R per wafer da 300 mm, consente di effettuare mappature 2D di un wafer intero (da 300mm) in poco più di due minuti.

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ULVAC Inc. è una nota Società Giapponese Multinazionale che opera, sindal 1952, nel settore del Vuoto e delle tecnologie ad esso correlate.
Rimane forse la solo multinazionale che produce tutta la filiera del vuoto “in verticale”, ovvero dalla singola pompa sino ad un impianto completo di deposizione per films sottili o di etching per il mercato  dei semiconduttori,  per i produttori di FPD, impianti a film sottile per ottica ecc..

La Gambetti Kenologia collabora con ULVAC per quanto concerne la ellissometria spettroscopica,  promuovendo sul mercato Italiano un interessante ellissometro della serie UNECS, molto innovativo e di semplice utilizzo rispetto agli strumenti tradizionali.

Commercializziamo inoltre la gamma ULVAC dei cercafughe ad Elio e sniffer della serie HELIOT, che hanno alcune caratteristiche che li differenziano rispetto agli strumenti attualmente sul mercato.

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KLA – Profilometri a stilo, confocali ed interferometrici

Profilometro ottico Profilm3D

Profilometro ottico 3D a luce bianca WLI, primo strumento al mondo ad un costo contenuto che consente di ottenere misure 3D, di rugosità, gradini, in modo semplice ed accurato

Partner

 

KLA è stata costituita nel maggio del 1997 e nasce dalla fusione di due società (KLA Instruments e Tencor Instruments) leader nel settore della strumentazione di caratterizzazione nell´industria dei semiconduttori. Con un fatturato complessivo di quasi 1 miliardo di dollari e più di 4800 dipendenti, KLA è in grado di offrire una ampia gamma di sistemi di controllo con una produttività senza eguali.

Fondata nel 1976 ed accreditata come azienda pionieristica nel proporre soluzioni ad alta produttività nel mercato dei semiconduttori, KLA, nel 1978, ha iniziato a realizzare sistemi di ispezione che hanno ridotto il tempo di verifica delle fotomaschere da 8 ore a 15 minuti. La società si è quotata in borsa nel 1980 ed ha ampliato molto velocemente la gamma di prodotti per il controllo dei wafers. Due anni più tardi la società è entrata anche nel settore della metrologia dei wafer con strumenti di misura ottici.

KLA ha poi continuato a sviluppare le sue lineee di prodotti, progettando un software di analisi per l´integrazione dei dati delle ispezioni e delle misure. E´ stata la prima società del settore ad offrire un servizio di consulenza tecnica per fornire al cliente soluzioni per il miglioramento della produttività attraverso i propri sistemi di ispezione. Al momento della fusione con Tencor, KLA aveva un fatturato di 695 milioni di dollari e 2500 impiegati in tutto il mondo.

Anche la Tencor fu fondata nel 1976 proponendo Alpha-Step, un profilometro per la caratterizzazione superficiale. Alpha-Step ha fornito un miglioramento significativo nella misura dello spessore dei film sottili che fino ad allora era considerato un parametro critico.

Nel 1984, la società ha introdotto il primo Surfscan basato sulla tecnologia a scansione laser, per la misura della contaminazione superficiale dei wafer, diventato ben presto uno standard nel mercato dei semiconduttori. Negli anni 90, Tencor ha ampliato la sua linea di prodotti inserendo sistemi per l´analisi dei difetti. Nel 1993 ha acquisito la società Prometrix, leader nella produzione di sistemi ottici per la misura dei film sottili. Al momento della fusione con KLA, Tencor aveva un fatturato di 403 milioni di dollari e 1400 impiegati in tutto il mondo.

La Gambetti Kenologia ha rappresentato la società Tencor sino alla fusione nel 1997 con KLA. Nel corso dell´anno KLA ha aperto in Italia un ufficio dedicato ai clienti del mercato dei semiconduttori mentre la Gambetti Kenologia, per quanto riguarda il mercato italiano, ha continuato a distribuire in esclusiva la linea di profilometria e caratterizzazione.

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KLA – Nanoindentatori

Nanoindentatore InSEM HT

Nanoindentatore InSEM I, II ed HT, sistemi di nanoindentazione per l'analisi delle propietà meccaniche dei materiali all'interno dei SEM, SEM FIB, anche nella versione ad 800°C.

Nanoindentatore per sem fib afm

NanoFlip è un nanoindentatore per analisi in situ all'interno di strumenti come SEM, FIB SEM, AFM, profilometri ottici e microscopi ottici.

Nanoindentatore iMicro

Nanoindentatore iMicro per test nanomecanici ad alte prestazioni di durezza, modulo elastico su campioni soffici e non per l'industria e la ricerca.

Nanoindentatore iNano

iNano è il nanoindentatore più versatile e performante sul mercato, ripetibilità, accuratezza e precisione ad un prezzo alla portata del vostro laboratorio

Nanoindentatore G200X

Nanoindentatore G200 accurato, flessibile e user-friendly con forze di carico fino a 10N e risoluzione di 3 nN

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KLA è stata costituita nel maggio del 1997 e nasce dalla fusione di due società (KLA Instruments e Tencor Instruments) leader nel settore della strumentazione di caratterizzazione nell´industria dei semiconduttori. Con un fatturato complessivo di quasi 1 miliardo di dollari e più di 4800 dipendenti, KLA è in grado  di offrire una ampia gamma di sistemi di controllo con una produttività senza eguali.

Fondata nel 1976 ed accreditata come azienda pionieristica nel proporre soluzioni ad alta produttività nel mercato dei semiconduttori, KLA, nel 1978, ha iniziato a realizzare sistemi di ispezione che hanno ridotto il tempo di verifica delle fotomaschere da 8 ore a 15 minuti. La società si è quotata in borsa nel 1980 ed ha ampliato molto velocemente la gamma di prodotti per il controllo dei wafers. Due anni più tardi la società è entrata anche nel settore della metrologia dei wafer con strumenti di misura ottici.

KLA ha poi continuato a sviluppare le sue lineee di prodotti, progettando un software di analisi per l´integrazione dei dati delle ispezioni e delle misure. E´ stata la prima società del settore ad offrire un servizio di consulenza tecnica per fornire al cliente soluzioni per il miglioramento della produttività attraverso i propri sistemi di ispezione. Al momento della fusione con Tencor, KLA aveva un fatturato di 695 milioni di dollari e 2500 impiegati in tutto il mondo.

Anche la Tencor fu fondata nel 1976 proponendo Alpha-Step, un profilometro per la caratterizzazione superficiale. Alpha-Step ha fornito un miglioramento significativo nella misura dello spessore dei film sottili che fino ad allora era considerato un parametro critico.

Nel 1984, la società ha introdotto il primo Surfscan basato sulla tecnologia a scansione laser, per la misura della contaminazione superficiale dei wafer, diventato ben presto uno standard nel mercato dei semiconduttori. Negli anni 90, Tencor ha ampliato la sua linea di prodotti inserendo sistemi per l´analisi dei difetti. Nel 1993 ha acquisito la società Prometrix, leader nella produzione di sistemi ottici per la misura dei film sottili. Al momento della fusione con KLA, Tencor aveva un fatturato di 403 milioni di dollari e 1400 impiegati in tutto il mondo.

La Gambetti Kenologia ha rappresentato la società Tencor sino alla fusione nel 1997 con KLA. Nel corso dell´anno KLA ha aperto in Italia un ufficio dedicato ai clienti del mercato dei semiconduttori mentre la Gambetti Kenologia, per quanto riguarda il mercato italiano, ha continuato a distribuire in esclusiva la linea di profilometria e caratterizzazione.

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Park Systems – Microscopi a forza atomica

Microscopio a forza atomica NX7

Il microscopio a forza atomica di Park NX7 è dotato di tutta la tecnologia più avanzata, a un prezzo accessibile per il vostro laboratorio.
FX40 Park AFMPark Systems

Park Systems FX40

Il microscopio a forza atomica Park FX40 è il primo AFM al mondo di facile utilizzo con tecnologia robotica e self-learning

Microscopio a forza atomica NX10

Il microscopio AFM NX10 di Park System, garantisce accuratezza della costruzione dell’immagine, velocità di scansione, e una durata del tip ineguagliabile

Partner

 

L’azienda AFM in più rapida crescita con le maggiori risorse.

Park Systems si sforza ogni giorno di essere all’altezza dello spirito innovativo dei suoi inizi. Nel corso della nostra lunga storia, abbiamo onorato il nostro impegno nel fornire gli AFM più accurati e allo stesso tempo molto facili da usare, con caratteristiche rivoluzionarie come la modalità True Non-Contact™ e molti software automatizzati. Non ci accontentiamo semplicemente di basarci sul nostro successo passato. Tutti i nostri prodotti sono progettati con la stessa cura e creatività che è entrata agli inizi, permettendoti di concentrarti su come ottenere risultati senza preoccuparti dell’integrità dei tuoi strumenti.

Dopo oltre un quarto di secolo di continua crescita e innovazione dei prodotti, Park ha la più lunga storia di business degli AFM nel settore. L’azienda ha sviluppato una rete di vendita globale di oltre 30 paesi e ha più di 1000 AFM in uso in tutto il mondo. È l’azienda AFM in più rapida crescita con più di 120 dipendenti a tempo pieno dedicati alla produzione degli AFM più accurate e facili da usare.


Thermo Scientific – Sistemi XPS – XRay Photoelectron Spectroscopy (XPS)

ESCALAB QXi XPS

Lo spettrometro XPS ESCALAB 250 Xi+ soddisfa le richieste di coloro che necessitano di maggiori prestazioni analitiche unite alla flessibilità.

Spettrometro XPS compatto K-Alpha+

Lo spettrometro Thermo Scientific™ K-Alpha™ XPS è stato progettato per fornire risultati di alta qualità sulla base di un flusso di lavoro semplificato. Ha un funzionamento semplice e intuitivo, senza dover rinunciare alle capacità di analisi sia in termini di performance che di XPS.

Partner

 
Brochure generale

Thermo Scientific è uno dei maggiori gruppi industriali al mondo per la fornitura di strumentazione analitica, con un fatturato che ha superato i  18 M di $ nell’ultimo anno e con  più di 50.000 occupati in 50 paesi del mondo.

Gambetti Kenologia rappresenta in Italia la divisione degli strumenti per analisi superficiale XPS (Photon electron X-Ray Spettroscopy) di Thermo Scientific

La spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS) è una tecnica utilizzata per analizzare la chimica delle superfici di un materiale. Con questa tecnica si può misurare la composizione elementare, la formula empirica, lo stato chimico e lo stato elettronico degli elementi di un materiale.

Gli Spettri XPS sono ottenuti irradiando una superficie solida con un fascio di raggi X e, contemporaneamente, misurando l’energia cinetica degli elettroni che vengono emessi dai primi strati superficiali (da 1 a 10 nm del materiale analizzato).

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Analisi di superfice SIMS & LEIS

M6 SIMS

M6 è l'ultima generazione di strumenti di fascia alta di IONTOF Il suo design garantisce prestazioni superiori in tutti i campi delle applicazioni SIMS

M6 Plus SIMS

M6 Plus SIMS che unisce la composizione chimica, alle proprietà fisiche e alla struttura tridimensionale dei materiali e dispositivi su scala nanometrica

M6 Hybrid SIMS

Con l’estensione Q ExactiveTM per M6, IONTOF fornisce il primo strumento SIMS commerciale che combina la più elevata risoluzione di massa

Spettrometro TOF SIMS 5

TOF.SIMS 5 IONTOF offre uno strumento TOF-SIMS collaudato sul campo ed efficiente standard di mercato nella ricerca e nell'industria

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La società ION TOF è un´azienda leader nella realizzazione di sistemi analitici di superficie di tipo TOF SIMS (Time of Flight – Secondary Ions Mass Spectroscopy) e LEIS (high sensitive Low Energy Ion Scattering).

La società , fondata dal Prof. Alfred Benninghoven nel 1989, ha iniziato la sua attività , commercializzando le soluzioni analitiche realizzate grazie alle pionieristiche ricerche del Prof. Benninghoven e del suo team di ricercatori dell´Università di Munster.

Sin dall´inizio il contributo tecnologico e scientifico delle ricerche condotte presso l´Università di Munster ha avuto un ruolo cruciale per il successo commerciale dei prodotti.

Nel frattempo la tecnica TOF SIMS si è affermata come una delle più efficaci e potenti tecniche di investigazione della composizione chimica delle superfici e degli strati vicini alla superficie.

Di più recente introduzione invece è la tecnica LEIS, che consente l´investigazione chimica non distruttiva della composizione chimica, e della relativa distribuzione spaziale, delle specie presenti nel solo primo strato atomico di superficie.

Dalle prime realizzazioni ad oggi, sono state introdotte molte innovazioni che hanno migliorato le caratteristiche di risoluzione spaziale e di affidabilità , ed attualmente sono in esercizio circa 160 strumenti in tutto il mondo.

Il costante coinvolgimento in progetti di ricerca universitari, in modo particolare nel settore delle Nanotecnologie, consente di avere un contatto diretto con i problemi e le richieste di potenzialità analitica che vengono avanzati.

Questo aspetto risulta di grande impulso per lo sviluppo scientifico e tecnologico del portafoglio prodotti.

ION TOF lavora in simbiosi con TASCON, la quale attraverso dimostrazioni e servizi di analisi conto terzi permette un facile e consistente approccio alle potenzialità analitiche delle tecniche TOF SIMS e LEIS.

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GAMBETTI – Plasmi per la modifica delle superfici

FALCON RIE+

Sistema plasma da tavolo con modalità RIE e CLEANING selezionabile via software

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MKS Instruments – Alimentatori RF e DC

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Nome di indiscusso prestigio nella produzione di strumenti e di sottosistemi integrati per la misurazione, il controllo ed il monitoraggio di tutti i parametri critici nel settore dei semiconduttori e in tutti gli altri settori produttivi avanzati.

Alla storica e ben conosciuta linea di strumenti per il controllo e la misura delle pressioni e dei gas, MKS Instruments ha negli ultimi anni affiancato un vasta gamma di prodotti complementari per fornire ai clienti OEM o end user, nell´industria come nella ricerca, un pacchetto di soluzioni globali, dal prodotto finito ad un servizio globale di assistenza di elevata professionalità .

L´eccellente livello qualitativo dei prodotti e delle tecnologie MKS Instruments forniscono le infrastrutture ai processi produttivi.

MKS può offrire una risposta per le seguenti esigenze:

  • gestione dei flussi di gas in entrata ed uscita dalla camera di processo
  • misura e controllo della pressione dei gas nella camera di processo
  • analisi e monitoraggio della composizione del gas
  • analisi dello spessore del film depositato e del profilo dei dopanti
  • isolamento dell´ambiente di processo dall´ambiente esterno
  • creazione di gas reattivi per processi o pulizia delle camere
  • Facilitazione comunicazioni digitali tra i sensori e i sistemi di controllo
  • analisi e monitoraggio dei gas di scarico
  • taratura della strumentazione per assicurare la ripetibilità dei processi

MKS Instruments è leader riconosciuto in tutto il mondo per la precisione, la stabilità e la ripetibilità dei suoi prodotti, caratteristiche essenziali che permettono ad ogni cliente di replicare il processo su ogni impianto, in ogni azienda e in ogni paese. GGK ha iniziato il rapporto di collaborazione con MKS Instruments nel 1986. Questo rapporto di successo si è nel tempo consolidato permettendo di creare al nostro interno uno staff di vendita, di supporto applicativo e di assistenza di altissimo profilo.

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