Sistema Nanofab CVD PECVD

Descrizione

Il Nanofab è un sistema per la crescita a rate elevati dei nanomateriali (come il grafene) con attivazione catalitica in situ, e controllo rigoroso dei processi.

  • Design a parete fredda con doccia a rilascio uniforme del precursorePossibilità di arricchimento del plasma: in camera (CCP) o plasma remoto (ICP)
  • Sistema con load lock per una rapido cambio del campione
  • Uniformità della temperatura eccellente
  • Sistema di rilascio del liquido/solido opzionale per la crescita di MoS2, MoSe2 e altri TMDC
  • Dimensioni del campione variabili da piccoli pezzi fino a un diametro massimo di 200 mm
  • Accesso ottico multiplo per la caratterizzazione in situ (OES, Ellipsometry ecc.)
  • Opzioni del tavolo riscaldante da 700° C, 800° C o 1200° C

Supporto di processo e applicativo

Disponiamo di una vastissima libreria di processi e di un reparto attrezzato con le migliori tecnologie per la caratterizzazione dei film e dei processi, oltre alla possibilità di sviluppare processi ad HOC insieme al cliente.

Dichiaro di aver preso visione dell‘ informativa sulla privacy ai sensi del regolamento GDPR – art. 13 UE 679/2016 ed autorizzo al trattamento dei miei dati personali al fine dell’invio di informazioni commerciali.

Per maggiori informazioni : Leggi informativa sulla privacy