Descrizione
Il Nanofab è un sistema per la crescita a rate elevati dei nanomateriali (come il grafene) con attivazione catalitica in situ, e controllo rigoroso dei processi.
- Design a parete fredda con doccia a rilascio uniforme del precursorePossibilità di arricchimento del plasma: in camera (CCP) o plasma remoto (ICP)
- Sistema con load lock per una rapido cambio del campione
- Uniformità della temperatura eccellente
- Sistema di rilascio del liquido/solido opzionale per la crescita di MoS2, MoSe2 e altri TMDC
- Dimensioni del campione variabili da piccoli pezzi fino a un diametro massimo di 200 mm
- Accesso ottico multiplo per la caratterizzazione in situ (OES, Ellipsometry ecc.)
- Opzioni del tavolo riscaldante da 700° C, 800° C o 1200° C
Supporto di processo e applicativo
Disponiamo di una vastissima libreria di processi e di un reparto attrezzato con le migliori tecnologie per la caratterizzazione dei film e dei processi, oltre alla possibilità di sviluppare processi ad HOC insieme al cliente.