Sistema Nanofab CVD PECVD

Descrizione

Il Nanofab è un sistema per la crescita a rate elevati dei nanomateriali (come il grafene) con attivazione catalitica in situ, e controllo rigoroso dei processi.

• Design a parete fredda con doccia a rilascio uniforme del precursorePossibilità di arricchimento del plasma: in camera (CCP) o plasma remoto (ICP)
• Sistema con load lock per una rapido cambio del campione
• Uniformità della temperatura eccellente
• Sistema di rilascio del liquido/solido opzionale per la crescita di MoS2, MoSe2 e altri TMDC
• Dimensioni del campione variabili da piccoli pezzi fino a un diametro massimo di 200 mm
• Accesso ottico multiplo per la caratterizzazione in situ (OES, Ellipsometry ecc.)
• Opzioni del tavolo riscaldante da 700° C, 800° C o 1200° C

Supporto di processo e applicativo

Disponiamo di una vastissima libreria di processi e di un reparto attrezzato con le migliori tecnologie per la caratterizzazione dei film e dei processi, oltre alla possibilità di sviluppare processi ad HOC insieme al cliente.