Oxford Instruments Plasma Technology offre sistemi di processo flessibili e configurabili, per processi di ultima generazione, che permettono la realizzazione precise, controllata e ripetibile di micro e nano strutture.

Questi sistemi forniscono soluzioni di processo per la crescita e la rimozione di strati di materiali su strutture a livello nanometrico.

Queste soluzioni sono basate su tecnologie di deposizione o attacco assistite da Plasma, quali PECVD, Sputtering e RIE/ICP( Plasma Enhanced Vapor Deposition e Etching) , assistite da Fasci ionici( Ion Beam Sputtering e Etching), Atomic Layer Deposition (ALD),e Hydride Vapor Phase Epitaxy(HVPE).

La gamma dei prodotti comprende sistemi compatti adatti per applicazioni in Ricerca e Sviluppo, sistemi di produzione tipo batch , sistemi multicamera ( Cluster) e multitecnica, con caricatori Cassette to Cassette per sistemi ad altra produttività.

I mercati principali a cui OIPT si rivolge sono:

• Display ed Illuminazione (LED)
• Elettronica e Semiconduttori
• Energia
• Tecnologia dell’Informazione e Comunicazione (ICT)
• Mercati di nicchia ed emergenti

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